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產(chǎn)品型號(hào): GMD2000
所屬分類:研磨分散機(jī)
更新時(shí)間:2024-08-18
簡要描述:低酒精濃度魔芋粉濕法研磨機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。
一、產(chǎn)品關(guān)鍵詞
低酒精魔芋粉研磨機(jī),魔芋粉濕法研磨機(jī),低酒精濃度濕法研磨機(jī),立式濕法研磨分散機(jī),德國不銹鋼研磨機(jī)
二、低酒精濃度魔芋粉濕法研磨機(jī)
低酒精濃度濕法加工魔芋精粉的方法B、將魔芋切分護(hù)色;-10℃~5%~5%~D、干燥處理。該方法是在溫度為0℃的環(huán)境下對魔芋進(jìn)行粉碎、研磨與分離處理,這樣只需使用濃度為15%的酒精即可防止精粉粒子發(fā)生過度溶脹或形成溶膠,其加工成本大大降低。適合在食品加工領(lǐng)域推廣應(yīng)用。
所謂濕法加工魔芋精粉,是指在加工精粉的過程中采用保護(hù)性溶劑浸潰保護(hù)加工,使精粉不膨化、不褐變,經(jīng)粉碎、研磨、分離、干燥等工序制取濕法精粉全過程的方法。濕法加工采用的保護(hù)性溶液包括有機(jī)溶劑保護(hù)液和無機(jī)溶劑保護(hù)液,有機(jī)溶劑保護(hù)液主要指以食用酒精作為控溶劑為主配兌的保護(hù)液,無機(jī)溶劑保護(hù)液主要指以四硼酸鈉)為主配兌的保護(hù)液,前者保護(hù)液成本較高,但精粉質(zhì)量好,精粉產(chǎn)品用于醫(yī)藥、食品等各行業(yè),后者保護(hù)液成本低,但加工的精粉不能食用,僅能作為工業(yè)用精粉。
三、研磨分散機(jī)的工藝
上海思峻的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。低酒精濃度魔芋粉濕法研磨機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。
GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
四、研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)
GMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
五、研磨分散機(jī)的特點(diǎn)
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
六、從設(shè)備角度來分析,影響分散效果因素有以下幾點(diǎn):
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)
線速度的計(jì)算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,研磨分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的。
七、GMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量L/H | 轉(zhuǎn)速rpm | 線速度m/s | 功率kw | 入/出口連接DN |
GMSD2000/4 | 300 | 18000 | 51 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 14000 | 51 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 2000 | 9200 | 51 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 5000 | 2850 | 51 | 37 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 8000 | 1420 | 51 | 55 | DN150/DN125 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。