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鹽酸頭孢噻呋超高速剪切膠體磨

鹽酸頭孢噻呋超高速剪切膠體磨

產(chǎn)品型號: GMD2000

所屬分類:高剪切膠體磨

更新時間:2024-08-15

簡要描述:鹽酸頭孢噻呋超高速剪切膠體磨,鹽酸頭孢噻呋改進型膠體磨,是,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及分散的效果。

詳細說明:

鹽酸頭孢噻呋超高速剪切膠體磨,鹽酸頭孢噻呋改進型膠體磨,是,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及分散的效果。

鹽酸頭孢噻呋膠體磨  

設(shè)備選型上注意幾點:

  • 設(shè)備能夠達到無菌級別。即設(shè)備可以在線滅菌,可以耐受高溫,滅菌后可以保持無菌狀態(tài)。
  • 電機要求有變頻控制,可以有效延緩電機的壽命。
  • 膠體磨的不銹鋼材質(zhì)一定要耐磨,防止研磨過程出現(xiàn)金屬碎屑。
  • 關(guān)于生產(chǎn)效率配備、連接方式、電源、噪音、安全等問題生產(chǎn)單位應(yīng)根據(jù)生產(chǎn)現(xiàn)場考慮。

選定的膠體磨作為生產(chǎn)頭孢噻呋、頭孢喹肟等混懸液的關(guān)鍵設(shè)備,由于價格較貴,需要在廠家現(xiàn)場試驗,考察研磨效果。為做好此項工作,制定方案如下:

  • 周一高新區(qū)設(shè)備員根據(jù)三個廠家提供的資料,結(jié)合高新區(qū)的產(chǎn)能,優(yōu)選出2家設(shè)備,并確定設(shè)備的型號。同時確認zui小試驗數(shù)量,以及試驗現(xiàn)場是否有檢驗研磨粒度的儀器。
  • 周一高新區(qū)水針車間根據(jù)廠家提供的zui小配料量,配制試驗兩家設(shè)備的物料。
  • 由于硫酸頭孢喹肟的價格較貴,本次試驗采用鹽酸頭孢噻呋,暫不考慮喹肟(喹肟研磨時間較長)。
  • 初步按照每家設(shè)備4升體積的試驗量,準備8升數(shù)量的物料。具體物料數(shù)量由研發(fā)提供,高新區(qū)提供。
  • 根據(jù)試驗數(shù)量,周一做出相應(yīng)比例的油膠溶液。準備試驗器材。
  • 試驗方案

試驗?zāi)康模簷z驗?zāi)z體磨的研磨效果以及效率

試驗器材:試驗用膠體磨、顯微鏡、載玻片、涂針、留樣瓶、封口鉗、8號針頭、注射器,1ml移液管,溫度計。

試驗步驟:

1、現(xiàn)場確認設(shè)備的型號、性能、以及清洗方式。

2、加入物料,設(shè)定3分鐘的研磨時間(假定4升物料研磨5分鐘合格,那么放大至80升物料,需要研磨60分鐘),取樣檢測粒度,記錄粒度分布數(shù)量。用移液管測量流速,用8號針頭測量通針性。以上數(shù)據(jù)作為比較兩家設(shè)備的參數(shù)。

3、如果3分鐘沒有達到效果,則繼續(xù)進行5分鐘試驗。以此類推,繼續(xù)做好數(shù)據(jù)檢測。

4、在研磨性能試驗完成以后,利用現(xiàn)有物料對膠體磨進行連續(xù)開機試驗,初步定為30分鐘,試驗?zāi)z體磨的產(chǎn)熱降溫性能。測量機體軸承處溫度、測量研磨腔出來的料溫溫度,顯微鏡檢查料液中是否有金屬碎屑。以上數(shù)據(jù)作為比較兩家設(shè)備的數(shù)據(jù)。

 

鹽酸頭孢噻呋膠體磨是 

化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。 

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

GMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

鹽酸頭孢噻呋膠體磨    跟多額信息請 

研磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

GMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

GMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

GMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

GMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

GMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

120000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。



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