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產(chǎn)品型號(hào): GMD2000/4
所屬分類:高剪切均質(zhì)機(jī)
更新時(shí)間:2024-09-05
簡(jiǎn)要描述:高剪切防黏劑三級(jí)研磨均質(zhì)機(jī)GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8
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防黏劑簡(jiǎn)述
防黏劑能降低膠料或粘料自粘性、減少表面的粘連并有產(chǎn)生稍微粗糙表面作用的物質(zhì)。它能防止聚合物自身或與他接觸物粘連的物質(zhì)。通常為磨碎的不熔性粉末,也可用石蠟等潤(rùn)滑劑。
應(yīng)用在BOPP薄膜的另一類防粘連劑是有機(jī)防粘連劑,一般為有機(jī)硅聚合物或甲基丙烯酸酯的聚合物。這種具有特定結(jié)構(gòu)的交聯(lián)聚合物顆粒,與聚丙烯樹(shù)脂混合后,在經(jīng)過(guò)定向拉伸所得的薄膜表面上,形成平均高度為60~600nm的突出物,從而起到薄膜防粘連的的作用。[2]
(1)光學(xué)性好,對(duì)薄膜的透明性幾乎沒(méi)有影響;
(2)兼具增滑的功能,使薄膜有低的摩擦系數(shù);
(3)對(duì)膜面不會(huì)產(chǎn)生劃傷,薄膜光澤度較高。
有機(jī)類防粘連劑相對(duì)于無(wú)機(jī)類防粘連劑的材料價(jià)格要高的多,一般是3-6倍左右,所以有機(jī)防粘連劑在高檔BOPP薄膜產(chǎn)品上應(yīng)用廣泛。
高剪切防黏劑三級(jí)研磨均質(zhì)機(jī)GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
膠體磨和均質(zhì)機(jī)的一體化設(shè)計(jì)相對(duì)于膠體磨和均質(zhì)機(jī)的串聯(lián)而言更具優(yōu)勢(shì)。串聯(lián)的話存在時(shí)間差,當(dāng)物料通過(guò)膠體磨之后,磨細(xì)后物料會(huì)出現(xiàn)抱團(tuán)的現(xiàn)象,再經(jīng)過(guò)均質(zhì)機(jī)分散,效果不是很好。而GMD研磨均質(zhì)機(jī)的話,物料磨細(xì)后,瞬間又通過(guò)分散工作組,進(jìn)行分散,在物料還未抱團(tuán)之前,就進(jìn)行了分散,一個(gè)瞬間作用,效果會(huì)好很多。
型號(hào) | 標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 進(jìn)口尺寸 | 出口尺寸 |
GMD2000/4 | 300-1,000 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25 | DN15 |
GMD2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40 | DN32 |
GMD2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 15 | DN50 | DN50 |
GMD2000/20 | 20,000 | 3,000 | 23 | 37 | DN80 | DN65 |
GMD2000/30 | 40,000 | 1,500 | 23 | 55 | DN150 | DN125 |
GMD2000/40 | 70,000 | 1,500 | 23 | 90 | DN150 | DN125 |
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